Limits and interest of a low surface temperature for plasma etching processes
| Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
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Communication Dans Un Congrès
Année : 2024
Christophe Cardinaud : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-04674902
Soumis le : mercredi 21 août 2024-18:07:10
Dernière modification le : samedi 24 août 2024-03:16:47
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04674902 , version 1
Citer
Christophe Cardinaud, Felipe Cemin, Aurélie Girard, Gaëlle Antoun, Thomas Tillocher, et al.. Limits and interest of a low surface temperature for plasma etching processes. Plasma Etch and Strip for Microelectronics - Plasma Cryoetching Processes, Jun 2024, Louvain (Leuven), Belgium. ⟨hal-04674902⟩
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